活塞環鍍鉻網紋影響因素有很多，如鍍鉻槽液工藝參數、雜質含量、鍍鉻工藝及添加劑、鍍層厚度及鍍后處理方法等。
活塞環鍍鉻網紋影響因素如下：
1、 鍍液成分的影響
鍍鉻槽液成分鉻酸、硫酸、三價鉻等組合的各異影響鍍鉻電沉積過程中結晶的晶格及晶粒的大小，從而表現為對網紋深淺稀疏的影響。
1） 鉻酸含量高，陰極極化小，晶核少，結晶變大，內應力減小，網紋密度下降
2） 硫酸根/鉻酸比下降，即硫酸根含量增加，網紋變密
3） 三價鉻過高，鍍鉻層變得發灰、粗糙，網紋變稀
2、 雜質的影響
鍍鉻槽液雜質過高，鍍層外觀粗糙、發暗，且網紋少而寬
3、 鍍鉻工藝及添加劑的影響
在普通的鍍鉻工藝和亞泰化工CA-2000活塞環鍍鉻工藝中其網紋的對比參見下圖：
CA-2000工藝網紋（微裂紋）1120條/厘米
傳統鍍鉻工藝網紋（微裂紋） 200條/厘米
在一定工藝范圍內，隨著添加劑含量的升高，網紋數量會增加
4、 鍍鉻電流密度的影響
鍍鉻陰極電流密度增加，陰極極化增大，晶核增多，晶粒變細化，內應力變大，網紋稠密；反之網紋變得稀疏，網紋密度變小
5、 槽液溫度影響
隨著我呢度升高，陰極極化變小，網紋密度下降；溫度降低，網紋細密。所以在鍍鉻時，溫度的穩定與均勻至關重要。
6、 鍍鉻厚度的影響
單層鍍鉻厚度隨著厚度上升，網紋特性變差
7、 特殊處理方法的影響
隨著刻蝕電流密度增加，網紋密度增大，這個主要是刻蝕提升了在顯微鏡下的可見性。
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