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CA-2000硬鉻電鍍添加劑/ProjecDetails

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CA-2000硬鉻電鍍添加劑

產(chǎn)品簡介：
CA-2000硬鉻電鍍工藝是高新技術(shù)和創(chuàng)造思維的結(jié)晶，完全不同與常規(guī)鍍鉻和普通混合型催化劑鍍鉻工藝，其工藝操作簡單，補(bǔ)給水單一添加，鍍液維護(hù)方便。

訂購熱線：400-928-1599

CA-2000硬鉻電鍍工藝是高新技術(shù)和創(chuàng)造思維的結(jié)晶，完全不同與常規(guī)鍍鉻和普通混合型催化劑鍍鉻工藝，其工藝操作簡單，補(bǔ)給水單一添加，鍍液維護(hù)方便。

CA-2000硬鉻電鍍添加劑

工藝特點(diǎn)

1.陰極電流效率高，可達(dá)23-25%

2.沉積速度快，是一般普通電鍍鉻的2-3倍

3.無陰極低電流區(qū)腐蝕

4.鍍層平滑，結(jié)晶細(xì)致光亮

5.高鍍層硬度，可達(dá)HV900-1150

6.微裂紋可達(dá)400-600條/厘米

7.鍍層厚度均勻，無高電流區(qū)沉積過厚

8.可使用高電流密度，可達(dá)90安培/平方分米

9.鍍液維護(hù)簡單，操作容易

10.無陽極腐蝕，不需采用特殊陽極

11.無固體添加之銘塵和濺水現(xiàn)象

鍍液配方和操作工藝

成分和物理參數(shù)	一般零件		活塞環(huán)
成分和物理參數(shù)	范圍	標(biāo)準(zhǔn)	范圍	標(biāo)準(zhǔn)
鉻酐(克/升)	210-250	230	165-190	180
硫酸(克/升)	2.4-3.5	2.7	1.8-2.1	2.0
溫度(℃)	55-60	57	55-60	57
陰極電流密度(安培/平方分米)	30-75	60	30-75	60
陽級(jí)電流密度(安培/平方分米)	15-35	30	15-35	30

鍍液配制

鍍件	鉻酐濃度	100升鍍液
一般零件	210-250克/升	2升CA-2000
活塞環(huán)	165-190克/升	1.45升CA-2000

1.清洗槽子

2.注入一半體積去離子水

3.加入所需量的鉻酐

4.添加所需量的CA-2000

5.加入去離子水、調(diào)節(jié)至規(guī)定液面

6.加熱至55-60℃

7.分析硫酸濃度，調(diào)整至規(guī)定工藝范圍

8.電解4小時(shí)

9.加入適宜的鉻霧抑制劑

10.試鍍

沉積速度

陰極電流密度(安培/平方分米)	沉積速度(微米/小時(shí))
30	20-30
45	40-50
60	50-70
75	70-90

設(shè)備

鍍槽：鐵槽內(nèi)襯軟PVC或其它認(rèn)可材料。

陽極：含錫7%鉛錫陽極或其它認(rèn)可材料。

整流器：輸出電壓可達(dá)9-16伏較適宜，輸出電流波紋率最好在5%以下。

溫度控制：采用熱交換器或冷卻管，建議采用鈦管或金屬披覆聚四氟乙烯。

轉(zhuǎn)缸及前處理

傳統(tǒng)的硬鉻液轉(zhuǎn)為CA-2000工藝簡單，將鍍液送交本廠化驗(yàn)。

確認(rèn)無機(jī)雜質(zhì)小于7.5克/升，同時(shí)不含氟化物即可，CA-2000工藝的前處理同一般傳統(tǒng)鍍鉻相同無需特殊處理。

槽液維護(hù)：CA-2000用于槽液之補(bǔ)充添加，按每千安培小時(shí)補(bǔ)充4-6毫升。

聯(lián)系亞泰化工

興化市亞泰化工有限公司

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公司傳真：0523-83841129

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