鍍鐵工藝控制要點：
1、 電鍍電流密度為8-10安培/平方分米
2、 電鍍電源：采用鍍鐵專用電源
3、 電流開啟方式：選擇交流正反向電流，起始時，正向電流為8-10，反向為7-8，正向為反向的1.3倍，然后在20分鐘時間內，每2分鐘降低一次反向電流，逐漸降到0，正向電流不變，后采用直流電鍍
4、 沉積速度，在8安培/平方分米，（實驗值為160微米/小時，不考慮起始的20分鐘的正反向電流時間）
5、 鍍層灰白，結合力良好
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