硬鉻層退鍍后再鍍往往較為困難，甚至局部或全部無鉻沉積,這主要是由于鍍件在第一次鍍鉻過程中嚴重滲氫和退鉻過程中游離出大量的碳之故，這種情況對鑄件鍍鉻尤為嚴重，由于鑄件中含大量的碳，并有縮孔、氣孔、裂紋和砂眼等存在，因而硬鉻層退除后再鍍都需根據(jù)具體情況而定。

一般碳素鋼材料上薄層鉻可參照裝飾鉻的電解退除，采用此法在鍍鉻時不會出現(xiàn)問題。對于鍍鉻層較厚，或是鑄鐵件，或是合金鋼件表面的鍍鉻層退除后再鍍鉻是有一定難度的，往往見猛烈地析出氫氧而未能見到鉻的沉積，產(chǎn)生這種現(xiàn)象的原因主要是由初始鍍鉻時受過滲氫之故，導致退除后鍍鉻時氫的過電位變小。

惟一的辦法是在原先的鉻層除后增加一道驅氫工序，驅氫方法可按常規(guī)在烘箱內(nèi)烘烤，也可在發(fā)藍溶液中按正常的發(fā)藍工藝處理1-2h,然后退除發(fā)藍膜。經(jīng)上述兩種方法之一的驅氫處理之后再鍍鉻，即能獲得理想的鍍鉻層。我公司興化市亞泰化工有限公司推出了CA-2000電鍍硬鉻新工藝，大大降低了客戶的生產(chǎn)成本，提高了加工品質。CA -2000電鍍硬鉻工藝所得的鍍層性能(包括鍍層外觀、光亮度、硬度、耐磨性能、耐腐蝕性能等)均達到甚至超過其性能。

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