由于在鉻酸鍍鉻液內(nèi)，其電流效率很低（13%~26%）。因此在電沉積時(shí)，陰極上產(chǎn)生大量氫氣。一部分氫與鉻生成了不穩(wěn)定的氫化鉻，并滲入到鉻鍍層的晶格內(nèi)，另一部分氫被基體所吸收，也滲入到基體晶格內(nèi)，而造成不同的內(nèi)應(yīng)力。只要基體金屬還沒有完全被致密的鍍鉻層所覆蓋時(shí)，基體金屬仍然有吸氫的可能。

鉻層因吸氫嚴(yán)重、內(nèi)應(yīng)力大，變形也容易，當(dāng)這種變形發(fā)展到超過一定限度時(shí)，鉻鍍層就裂開，形成裂紋網(wǎng)。當(dāng)加厚鍍鉻這一過程在反復(fù)進(jìn)行時(shí)，則會(huì)產(chǎn)生多層裂紋網(wǎng)。

根據(jù)以上機(jī)理，電解時(shí)的氫、外來離子的性質(zhì)‘內(nèi)應(yīng)力增加是鍍鉻層具有高硬度的主要因數(shù)。

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