DW-1——最新一代高效鍍鉻添加劑 (二）

⑷ 鍍層結晶細致、光亮，分散能力和深度能力佳，結合力好 ⑸ 陰極電流密度寬：20～90A/dm2；鍍層均勻，尖端放電減弱⑹ 無低陰極電流密度區腐蝕，不易產生鐵等金屬雜質⑺ 析氫量減少，鉻霧排出量亦減少，鉻酐利用率高 ⑻ 電流效率提高，生產效率亦提高，節能降耗明顯 ⑼ 無陽極腐蝕，無需特殊陽極；設備與普通鍍鉻相同，由于添加陽極保護劑，所以不腐蝕陽極，同時三價鉻不升高。⑽ 鍍液穩定，雜質容忍量較高；維護方便，操作簡單⑾ 產品質量穩定可靠，易于控制 ……二、沉積速度沉積速度比普通鍍鉻快1.5～2倍(普通鍍鉻電流效率只有13%左右)

陰極電流 密度 (A/dm2 ) 單面沉積速度 (um/hour) 陰極電流效率 (≈%) 30 25～30 19～22 40 37～41 20～23 50 45～54 21～24 60 60～70 22～25 70 72～85 23～26 80 85～98 24～27

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